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正性光刻对掩膜版的要求

在正性光刻过程中，掩膜版（Photomask）作为图形转移的关键工具，其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩膜版的主要要求：图案准...

2024-12-20 标签：光刻微流控掩膜 165 0

光刻掩膜和光刻模具的关系

光刻掩膜（也称为光罩）和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用，但它们的功能和应用有所不同。光刻掩膜版光刻掩膜版是微纳加工技术中常用的光刻工艺所使用的...

2024-10-14 标签：光刻掩膜 263 0

光刻掩膜版制作流程

光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程，涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 设计与准备在开始制作光刻掩膜版之前，首先需要...

2024-09-14 标签：光刻掩膜 639 0

掩膜版的技术迭代

掩膜版产品诞生至今约70多年，是电子制造行业中使用的生产制具。由于掩膜版技术演变较慢，下游运用广泛且不同行业对掩膜版的性能、成本等要求不同，不同代别的产...

2024-09-10 标签：芯片 eda 掩膜 352 0

掩膜版与光刻胶的功能和作用

掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色，它们的功能和作用各有侧重，但共同促进了芯片的精确制造。‌ 掩膜版‌，也称为光罩、光掩膜或光刻掩膜版，...

2024-09-06 标签：芯片光刻胶掩膜 730 0

铬版掩膜版介绍及制作方法

铬版掩膜版在IC生产中会大量使用，现社会因为LCD生产的档次提高了，也加大了生产量，铬板也逐渐由IC行业给推荐至LCD行业。铬板的优点很多，比如：线条精...

2024-09-05 标签：掩膜 229 0

芯片光刻掩膜的保存方法

光刻掩模是光的一种掩蔽模片，其作用有类似于照相的通过它，可以使它“底下“的光剂部分成光，难溶于有机药品，一部分不感光，易溶于有机药品，以而制得选择扩散所...

2024-09-04 标签：芯片光刻掩膜 275 0

如何成功进行微流控SU-8光刻胶的紫外曝光？

为了成功紫外曝光并且根据所需要的分辨率，光刻胶掩模必须尽可能的靠近SU-8光刻胶放置，不要有任何干扰。如要这样做，可检查如下几件事。首先，光掩模和晶圆...

2024-08-23 标签：微流控光刻胶掩膜 319 0

什么是光刻掩膜版保护膜？

大家都知道掩膜版主要由基板、遮光层和保护膜组成，其中基板（主要采用玻璃基材，包括石英和苏打两种材质）占直接原材料成本比重达90%。那么什么是掩膜版保...

2024-08-16 标签：芯片光刻保护膜 466 0

微流控光刻掩膜版的介绍及作用

微流控光刻掩膜在微流控芯片制造中扮演着至关重要的角色。它的主要作用是通过曝光和显影等工序，将掩膜上已设计好的图案转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而...

2024-08-15 标签：光刻微流控掩膜 629 0

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热设计是随着通讯和信息技术产业的发展而出现的一个较新的行业，在通讯、安防、PC、汽车、LED以及逆变器等行业中越来越被重视，成为产品研发中不可缺少的重要领域。热设计一般由前期的仿真和后期的测试验证来完成。当前的主流的仿真软件有Flotherm， Icepak，FloEFD， 6SigmaET等
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