晶片

东方闪光----隐形切割技术简介

一、究竟什么是隐形切割？ 导体制造中，使用大晶片是一个趋势。但是晶片本身就非常薄，切割工艺涉及到一系列问题，比如一片晶片能够切割出多少芯片、或者怎样在不...

2023-05-18 标签：激光晶片 508 0

帆宣集团 华友化工分公司代理美国康宁晶片表面形态测量系统

来源：华友化工国际贸易（上海） 随着传统工业技术改造、工厂自动化以及企业信息化发展提速，产业链升级与自动化提升也迫在眉睫。面对落后的产能和工艺，华友化工...

2023-05-17 标签：测量系统晶片 1039 0

用于制造半导体晶体的脱气室和使用其的脱气工艺

本文涉及一种用于制造半导体元件的滴气室及利用其的滴气工艺；晶片内侧加载的腔室，安装在舱内侧，包括通过加热晶片激活晶片上残存杂质的加热手段、通过将晶片上激...

2023-04-23 标签：半导体晶片 759 0

氮化铝单晶的湿法化学蚀刻

清洗过程在半导体制造过程中，在技术上和经济上都起着重要的作用。超薄晶片表面必须实现无颗粒、无金属杂质、无有机、无水分、无天然氧化物、无表面微粗糙度、无充...

2023-03-31 标签：半导体蚀刻晶片 558 0

简述集成电路的发明与变革

1947年底第一块晶体管问世，同为主动元件，相对于之前使用的真空管，晶体管具有体积小、能耗低，性能优越的特点，并且克服了真空管易碎的缺点，使其很快就成为...

2022-09-21 标签：集成电路半导体晶片 1218 0

旋涂技术的工作原理是什么

旋涂是应用最广泛的将光刻胶和其他材料均匀分配到基板。旋涂用于生产所需材料的薄膜，具有高水平的过程控制和可重复性。

2022-07-25 标签：晶片光刻胶 4719 0

RCA清洗中晶片表面的颗粒粘附和去除

溶液中颗粒和晶片表面之间发生的基本相互作用是范德华力(分子相互作用)和静电力(双电层的相互作用)。近年来，与符合上述两种作用的溶液中的晶片表面上的颗粒粘...

2022-07-13 标签：晶片清洗颗粒 1893 0

湿法清洗中去除硅片表面的颗粒

用半导体制造中的清洗过程中使用的酸和碱溶液研究了硅片表面的颗粒去除。

2022-07-05 标签：半导体晶片硅片 2319 0

栅极氧化物形成前的清洗

半导体器件制造中涉及的一个步骤是在进一步的处理步骤，例如，在形成栅极氧化物之前。进行这种清洗是为了去除颗粒污染物、有机物和/或金属以及任何天然氧化物，这...

2022-06-21 标签：半导体晶片 1760 0

旋转超声雾化液中新型处理GaAs表面湿法清

引言 我们华林科纳提出了一种新的GaAs表面湿法清洗工艺。它的设计是为了技术的简单性和在GaAs表面产生的最小损害。它将GaAs清洗与三个条件结合起来，...

2022-06-16 标签：半导体晶片 1171 0

基板旋转冲洗过程中小结构的表面清洗

引言 小结构的清洗和冲洗是微电子和纳米电子制造中的重要过程。最新技术使用“单晶片旋转清洗”，将超纯水(UPW)引入到安装在旋转支架上的晶片上。这是一个复...

2022-06-08 标签：半导体晶片 1042 0

快速倾倒冲洗实验报告研究

引言 在对半导体晶片进行清洗、蚀刻或剥离应用的化学处理后，应完全从表面移除工艺介质，以停止化学反应并带走化学残留物。当从化学浴中取出(或停止喷雾型设备中...

2022-06-08 标签：半导体晶片 945 0

减少光刻显影周期缺陷的冲洗方法

引言 随着线宽尺寸的不断减小，防止更小的缺陷对于保持产量变得至关重要。在显影周期中产生并附着在BARC表面的缺陷，例如水点或光刻胶残留物，一直是人们关注...

2022-06-07 标签：半导体晶片 1739 0

使用脉动流清洗毯式和图案化晶片的工艺研究

表面和亚微米深沟槽的清洗在半导体制造中是一个巨大的挑战。在这项工作中，使用物理数值模拟研究了使用脉动流清洗毯式和图案化晶片。毯式晶片清洗工艺的初步结果与...

2022-06-07 标签：半导体晶片清洗 436 0