晶片

晶片清洗、阻挡层形成和光刻胶应用

什么是光刻？光刻是将掩模上的几何形状转移到硅片表面的过程。光刻工艺中涉及的步骤是晶圆清洗；阻挡层的形成；光刻胶应用；软烤；掩模对准；曝光和显影；和硬烤。

2022-03-15 标签：工艺光刻晶片 1095 0

半导体单晶片旋转清洗器中涡流的周期性结构

近年来，随着集成电路的微细化，半导体制造的清洗方式从被称为“批量式”的25枚晶片一次清洗的方式逐渐改变为“单张式”的晶片一次清洗的方式。在半导体的制造中...

2022-02-22 标签：半导体结构晶片 1062 0

连接微观与宏观：半导体探针台的科技与创新

半导体产业是全球技术进步的核心引擎，其成果无处不在，从我们的智能手机到现代交通工具，再到各种先进的医疗设备。而在这一巨大产业中，每一个微小但至关重要的部...

2023-07-25 标签：半导体晶片探针台 1058 0

IPA蒸汽干燥硅晶片中的水分实验研究

为了评估用各种程序清洗和干燥的晶圆表面的清洁度，我们通过高灵敏度的大气压电离质谱(APIMS)成功地分析了这些晶圆表面的排气量。特别是，通过将晶片表面的...

2022-03-10 标签：特性晶片光谱 1033 0

用湿化学工艺制备的超薄氧化硅结构

近十年来，湿化学法制备超薄二氧化硅/硅和超薄二氧化硅/硅结构的技术和研究取得了迅速发展。这种结构最重要是与大尺寸硅晶片上氧化物层的均匀生长有关。

2022-03-11 标签：晶片金属电阻率 1025 0

二氧化硅蚀刻标准操作程序研究报告

缓冲氧化物蚀刻(BOE)或仅仅氢氟酸用于蚀刻二氧化硅在硅上晶片。 缓冲氧化蚀刻是氢氟酸和氟化铵的混合物。含氟化铵的蚀刻使硅表面具有原子平滑的表面高频。 ...

2022-03-10 标签：材料蚀刻晶片 1022 0

基板旋转冲洗过程中小结构的表面清洗

引言 小结构的清洗和冲洗是微电子和纳米电子制造中的重要过程。最新技术使用“单晶片旋转清洗”，将超纯水(UPW)引入到安装在旋转支架上的晶片上。这是一个复...

2022-06-08 标签：半导体晶片 1020 0

帆宣集团 华友化工分公司代理美国康宁晶片表面形态测量系统

来源：华友化工国际贸易（上海） 随着传统工业技术改造、工厂自动化以及企业信息化发展提速，产业链升级与自动化提升也迫在眉睫。面对落后的产能和工艺，华友化工...

2023-05-17 标签：测量系统晶片 1019 0

无化学添加剂的单晶硅晶片的无损抛光

半导体行业需要具有超成品表面和无损伤地下的硅晶片。因此，了解单晶硅在表面处理过程中的变形机制一直是研究重点。

2021-12-22 标签：晶片单晶硅 1015 0

分析师:整并是晶片产业未来大势

在全球经济前景以及行动通讯系统过渡不明朗的阴霾之下，今年的半导体产业表现可能会以低于5%的成长率勉强“含混过关”;但市场研究机构 IC Insights...

2011-09-22 标签：半导体晶片 1004 0

半导体湿法中臭氧溶液去除有机/无机污染

本研究利用臭氧去离子水（DIO3）开发了拥有低成本的新型清洗工艺(氧化亚钴），臭氧浓度为40ppm，用于去除有机蜡膜和颗粒，仅经过商业除蜡处理后，蜡渣仍...

2022-05-05 标签：半导体晶片 996 0

揭秘晶振生产：精细流程打造高质量产品

晶片加工高精度的切割设备将石英材料切割成预定尺寸的晶片，进行精细的研磨和腐蚀处理。研磨过程使晶片达到规定的厚度和大小，而腐蚀环节则是对晶片表面进行精细处...

2024-05-25 标签：晶振晶片切割 993 0

控制碱性蚀刻液的表面张力

引言 氢氧化钾(KOH)和添加剂2-丙醇(异丙醇，IPA)通常用于单晶硅片的碱性织构化，以减少其反射。氢氧化钾和异丙醇在水中的蚀刻混合物需要明确定义氢氧...

2022-01-04 标签：蚀刻晶片表面张力 975 0