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氮化硅

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氮化硅基板是一种新型的材料，具有高功率密度、高转换效率、高温性能和高速度等特点。氮化硅（SI3N4）陶瓷线路板是一种采用氮化硅陶瓷材料作为基板的高性能电子线路板。它具有优异的机械和电性能。

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氮化硅资讯

晶片表面沉积氮化硅颗粒的沉积技术

评估各种清洗技术的典型方法是在晶片表面沉积氮化硅(Si，N4)颗粒，然后通过所需的清洗工艺处理晶片。国家半导体技术路线图规定了从硅片上去除颗粒百分比的标...

2022-05-25 标签：半导体晶片清洗 1563 0

利用中红外氮化硅波导传感器检测挥发性有机化合物

这些特性使SiN成为波导传感器的理想材料，能够在长期传感操作中实现可重复、可再现的VOC检测。然而，据本论文的作者们所知，先前关于SiN作为波导材料的研...

2022-04-19 标签：传感器红外光谱 voc 1387 0

碳化硅和碳氮化硅薄膜的沉积方法

本文提供了在衬底表面上沉积碳化硅薄膜的方法。这些方法包括使用气相碳硅烷前体，并且可以釆用等离子体增强原子层沉积工艺。该方法可以在低于600“C的温度下进...

2022-02-15 标签：面板设备碳化硅 3832 0

用于CVD金刚石沉积的氮化硅表面预处理报告

摘要本文研究了氮化硅（氮化硅）基底的不同表面预处理（四种标准化学蚀刻和四种金刚石粉末磨刻(CVD)的效率。空白氮化硅样品用胶体二氧化硅(0.25m)抛...

2022-01-21 标签：半导体金刚石氮化硅 851 0

用磷酸揭示氮化硅对二氧化硅的选择性蚀刻机理

关键词:氮化硅，二氧化硅，磷酸，选择性蚀刻，密度泛函理论，焦磷酸介绍信息技术给我们的现代社会带来了巨大的转变。为了提高信息技术器件的存储密度，我们华...

2021-12-28 标签：半导体蚀刻氮化硅 6830 0

锗对氮化硅中红外集成光子学的波导

在中红外波长下，演示了一种具有大纤芯-包层指数对比度的锗基平台——氮化硅锗波导。仿真验证了该结构的可行性。这种结构是通过首先将氮化硅沉积的硅上锗施主晶片...

2021-12-16 标签：MiniGUI 量子物理学 1478 0

一种采用氮化硅衬底制造集成光子电路（光子芯片）技术

近日，瑞士洛桑联邦理工学院（EPFL）教授Tobias Kippenberg团队开发出一种采用氮化硅衬底制造集成光子电路（光子芯片）技术，得到了创纪录的...

2021-05-24 标签：芯片激光器光信号 4855 0

简析新型氮化硅光子集成电路实现极低的光学损耗

据报道，光子集成电路（PIC）通常采用硅衬底，大自然中有丰富的硅原料，硅的光学性能也很好。但是，基于硅材料的光子集成电路无法实现所需的各项功能，因此出现...

2021-05-07 标签：芯片激光器氮化硅 3189 0

一种采用氮化硅衬底制造光子集成电路的新技术

瑞士洛桑联邦理工学院（EPFL）基础科学学院的Tobias Kippenberg教授带领的科学家团队已经开发出一种采用氮化硅衬底制造光子集成电路的新技术...

2021-05-06 标签：芯片集成电路光学器件 2611 0

罗杰斯公司推出新型氮化硅陶瓷基板

罗杰斯公司于近日推出了新款 curamik®系列氮化硅 (Si3N4) 陶瓷基板。由于氮化硅的机械强度比其它陶瓷高，所以新款curamik® 基板能够帮...

2012-08-07 标签：半导体芯片罗杰斯陶瓷基板 3588 0

低热量化学气相工艺制备氮化硅

低热量化学气相工艺制备氮化硅美国Aviza工艺公司开发出一种低温化学气相沉积工艺(LPCVD)，可在500℃左右进行氮化硅沉积。这个工艺使用一

2009-06-12 标签：热量氮化硅 956 0

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