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汉辰

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卡位10纳米制程 台积电、汉辰积极部署抢商机

台积电与汉辰皆已针对未来可望取代硅的锗和三五族元素,分别投入发展新的晶圆制程,以及离子布植(Ion Implant)设备,期能在下一个半导体世代中,继续...

2013-03-28 标签:台积电10纳米汉辰 915 0

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