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等离子

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如果温度不断升高，气体将会发生怎样的变化呢？科学家告诉我们，这时构成分子的原子发生分离，形成为独立的原子，如氮分子会分裂成两个氮原子，我们称这种过程为气体中分子的离解。

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等离子技术

玻璃通孔技术研究进展

聚焦放电主要包括两个步骤：1) 将玻璃放在两个电极之间，通过控制放电对玻璃局部区域进行放电熔融；2)通过焦耳热使玻璃内部产生高应力，引起内部高压和介电击穿。

2024-04-26 标签：等离子光刻显微镜 997 0

等离子发动机的原理等离子发动机最大推力是多少

等离子发动机原理：等离子发动机是一种利用电磁力将离子加速并喷射出来产生推力的发动机。它主要包括等离子体产生器、离子加速器和喷嘴等组成。下面将详细介绍等...

2024-02-14 标签：发动机加速器等离子 5434 0

微波等离子处理对导电胶可靠性的影响

共读好书陈婷周伟洁王涛（无锡中微高科电子有限公司）摘要：研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理，进一步分析了等离子清洗次数对电路可靠性的影...

2024-02-20 标签：等离子微波导电胶 434 0

等离子体基铜蚀刻工艺及可靠性

近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。传统上，化学机械抛光(CMP)方法用于制...

2023-11-08 标签：等离子体等离子蚀刻工艺 485 0

什么是等离子体（Plasma），Plasma的组成及应用

焊线连接：工艺通过使用氩离子进行物理撞击，移除基材上的微量污染和氧化物。这种工艺对于解决焊线接合力不足是一种非常有效的途径。主要优点包括焊线接合力具有显...

2023-10-16 标签：芯片等离子无线电 5009 0

泛林的等离子刻蚀介绍

通常，我们需要将岩性模式转换为多个。一次蚀刻通道中的胶片类型

2023-09-26 标签：等离子泛林科技刻蚀 335 0

制造等离子纳米金刚石

近日，Nano Letters（《纳米快报》）在线发表武汉大学高等研究院梁乐课题组和约翰霍普金斯大学Ishan Barman课题组关于高效构建等离子增强...

2023-06-26 标签：等离子纳米金刚石 721 0

远程等离子体选择性蚀刻的新途径

为了提供更优良的静电完整性，三维(3D)设计（如全围栅(GAA)场电子晶体管(FET )）预计将在互补金属氧化物半导体技术中被采用。3D MOS架构为蚀...

2023-06-14 标签：半导体等离子 FET 2211 0

等离子清洗在引线框架封装工艺中有哪些应用

本文以 SOP008L 为例，通过对等离子清洗前后引线框架水滴角对比试验，工艺实验达到预期的效果，符合封装工艺的实际情况。研究结论对提高封装产品的可靠性...

2023-02-19 标签：等离子封装工艺 1095 0

等离子清洗技术

在真空状态下，高频电源的高压交变电场将氧气、氢气等反应性气体电离成高能量和高反应性的等离子气体。这些高活性基团被吸附在工件表面，与表面污染物发生化学反应...

2023-02-11 标签：等离子高频电源 3739 0

西安光机所等在激光等离子体光谱研究中获进展

针对上述问题，该团队提出离子动力学调制方法，对克服传统D-LIBS放电能耗大、安全风险高、环境危害大等不利因素，同时提高分析灵敏度具有显著改善效果。该工...

2023-02-10 标签：激光等离子光谱 724 0

浅析多次等离子清洗对引线键合质量可靠性的影响

等离子清洗的反应机理如图 1 所示，通常包括以下过程：反应气体被离解为等离子体；等离子体作用于固体表面分子反应生成产物分子；产物分子与残余物脱离固...

2023-02-10 标签：等离子框架电荷 1655 0

西安光机所在激光等离子体光谱研究方面获进展

首次提出并利用激光诱导等离子体冲击波与外加电场空间零弧度耦合方式，实现有效放电区域全方位覆盖激光等离子体中粒子的扩散方向，离子的动力学特征从原始的向外扩...

2023-02-08 标签：电容器等离子电弧 1137 0

半导体制造之等离子工艺详解

与湿式刻蚀比较，等离子体刻蚀较少使用化学试剂，因此也减少了化学药品的成本和处理费用。

2022-12-29 标签：晶圆工艺等离子 2183 0

半导体制造之等离子工艺

由下图可以看出当气体密度较高时MFP较短(a);而当气体密度较低时，MFP就较长(b)。大粒子的截面积较大，扫过的空间也较大。与一般或较小的离子相比，大...

2022-12-05 标签：工艺等离子刻蚀 1592 0

半导体制造之等离子工艺

等离子体工艺广泛应用于半导体制造中。比如，IC制造中的所有图形化刻蚀均为等离子体刻蚀或干法刻蚀，等离子体增强式化学气相沉积(PECVD)和高密度等离子体...

2022-11-15 标签：半导体工艺等离子 4005 0

干法刻蚀解决RIE中无法得到高深宽比结构或陡直壁问题

在 MEMS 制造工艺中，常用的干法刻蚀包括反应离子刻蚀（Reactive lon Etching， RIE）、深反应离子刻蚀（Deep Reacti...

2022-10-10 标签：射频 mems 等离子 4740 0

基于等离子态的四种物质状态

物质状态亦可用相的转变来表达。相的转变可以是结构上的转变又或者是出现一些独特的性质。

2022-10-09 标签：等离子容器二氧化碳 2703 0

等离子去胶新工艺简介

目前,在国内外半导体器件制造工艺中,用等离子去胶工艺代替常规化学溶剂去胶及高温氧气去胶已获得显著效果,越来越引起半导体器件制造者的重视。由于该工艺操作简...

2022-08-15 标签：半导体等离子制造工艺 1737 0

金属蚀刻残留物对对等离子体成分和均匀性的影响

本文研究了金属蚀刻残留物，尤其是钛和钽残留物对等离子体成分和均匀性的影响。通过所谓的漂浮样品的x射线光电子能谱分析来分析室壁，并且通过光发射光谱来监测C...

2022-05-05 标签：等离子蚀刻晶片 975 0

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