蚀刻

氢氧化钾在凸角处的蚀刻行为

各向异性蚀刻剂通过掩模中的矩形幵口在（100）硅晶片上产生由（ 100）和（111）平面组成的孔。在这种情况下，孔的上角是尖的。如果通过无掩模湿法各向异...

2022-03-07 标签：集成电路封装蚀刻 596 0

过硫酸铵溶液蚀刻回收铜上石墨烯片的合成

石墨烯是一种原子级薄层2D碳纳米材料，具有以六方晶格结构排列的sp2键碳原子。石墨烯因其优异的物理和电子性能而受到广泛关注。自发现石墨烯以来，石墨烯的基...

2023-10-24 标签：晶圆蚀刻石墨烯 594 0

化学添加剂对KOH 溶液中Si表面反应性的影响

介绍 于大多数半导体而言，阳极氧化需要价带空穴。因此，人们期望该反应发生在黑暗中的p型半导体和仅在(超)带隙光照射下的n型半导体。 氢氧化钾溶液中硅的化...

2021-12-31 标签：蚀刻测量 594 0

Si(111)衬底上脉冲激光沉积AlN外延薄膜的界面反应控制及其机理

通过有效控制AlN薄膜与Si衬底之间的界面反应，利用脉冲激光沉积（PLD）在Si衬底上生长高质量的AlN外延薄膜。英思特对PLD生长的AlN/Si异质界...

2023-11-23 标签：半导体激光蚀刻 594 0

悬浮波导SiO2薄膜的应力和折射率控制

悬浮二氧化硅结构对于许多光学和光子集成电路(PIC)应用是重要的，例如宽光谱频率梳，低传播损耗波导，以及紫外-可见光滤光器等。除了这些应用，悬浮波导还可...

2023-11-16 标签：薄膜蚀刻 580 0

玻璃电路板表面微蚀刻工艺

玻璃表面蚀刻纹路由于5G时代玻璃手机后盖流行成为趋势，预测大部分中高端机型将采用玻璃作为手机的后盖板。因此，基于玻璃材质的微加工工艺也就成为CMF研究中...

2024-07-17 标签：电路板蚀刻 580 0

如何利用原子力显微镜测量硅蚀刻速率

本文提出了一种利用原子力显微镜(AFM)测量硅蚀刻速率的简单方法，应用硅表面的天然氧化物层作为掩膜，通过无损摩擦化学去除去除部分天然氧化物，暴露地下新鲜...

2022-03-18 标签：检测蚀刻测量 576 0

基于喷射条件的蚀刻特性和雾化特性研究

本研究根据蚀刻条件的变化，对蚀刻特性——蚀刻率和蚀刻系数进行了球面分析，并使用速度、液滴大小、冲击力(PDA)系统分析了喷嘴、喷射压力、线短距离、工质物...

2022-04-07 标签：工艺特性蚀刻 576 0

怎样通过重新化学表面处理改善水痕缺陷

根据水痕缺陷主要成分是氧化硅的特征， 利用磷酸氧化硅有较低的蚀刻率， 并不会蚀刻掉多晶硅的特性， 工艺易于控制。 因此对于用光学显微镜观察到产生水痕缺陷...

2022-03-15 标签：晶圆蚀刻缺陷 570 0

氮化铝单晶的湿法化学蚀刻

清洗过程在半导体制造过程中，在技术上和经济上都起着重要的作用。超薄晶片表面必须实现无颗粒、无金属杂质、无有机、无水分、无天然氧化物、无表面微粗糙度、无充...

2023-03-31 标签：半导体蚀刻晶片 558 0

用蚀刻法对金属陶瓷薄膜进行电阻修整

二极管射频制备钽硅金属陶瓷薄膜的电学性能。研究了溅射和射频。用氩气对这些薄膜进行溅射蚀刻。 可以看出，当从钽面积比超过50%的靶溅射时，钽-二氧化硅金属...

2022-02-25 标签：电阻装置蚀刻 549 0

单晶硅晶片的超声辅助化学蚀刻

用氟化氢-氯化氢-氯气混合物进行各向异性酸性蚀刻是一种有效的方法 单晶硅晶片纹理化的替代方法 在晶片表面形成倒金字塔结构[1，2]形貌取决于以下成分 蚀...

2022-04-12 标签：晶圆蚀刻 531 0

锗基衬底抗蚀剂剥离工艺研究

具有高k栅极电介质的锗和绝缘体上锗(GeOI)MOSFET由于锗比硅具有更好的载流子传输特性，最近受到了先进技术节点的关注。对于Ge或GeOI CMOS...

2022-05-25 标签：工艺蚀刻衬底 531 0

一种制备PS层的超声增强化学蚀刻方法

本文采用超声增强化学蚀刻技术制备了多孔硅层，利用高频溶液和硝酸技术在p型取向硅中制备了多孔硅层。超声检测发现p型硅多孔硅层的结构，用该方法可以制备质量因...

2022-04-06 标签：超声波蚀刻 526 0

用蚀刻法测定硅晶片表面的金属杂质

本研究为了将硅晶片中设备激活区的金属杂质分析为ICP-MS或GE\AS，利用HF和HNQ混酸对硅晶片进行不同厚度的重复蚀刻，在晶片内表面附近，研究了定量...

2022-03-21 标签：半导体设备蚀刻 516 0

单层和多层中的应力和分层控制

类金刚石碳(DLC)膜具有诸如高硬度和低摩擦系数的优异特性，并且在切削工具、金属模具和机器部件中具有应用。不幸的是，它们通常表现出低粘合强度由于高的内部...

2023-09-26 标签：RF蚀刻单晶体 506 0

Aston 质谱仪对小开口区域的蚀刻有更高的灵敏度

上海伯东日本 Aston™ 质谱仪能够进行准确且可操作的端点检测, OA% 是传统 OES 计量解决方案的一个数量级（1/10）. Aston™ 质谱...

2023-06-20 标签：检测蚀刻质谱仪 506 0

通过X射线光刻在指尖大小的芯片中产生高精度微光学元件的晶圆级制造

引言 在过去的二十年中，市场对大量N灰度级三维微纳米元件的需求一直很活跃。基于铅笔束的光刻技术，我们可以生产出精确的组件，但目前需要更长的时间去处理。使...

2024-02-28 标签：芯片蚀刻晶圆级 494 0