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ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的关键材料，可用于90nm - 7nm技术节点的集成电路制造工艺，主要应用于高端芯片制造。

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　　ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的关键材料，可用于90nm - 7nm技术节点的集成电路制造工艺，主要应用于高端芯片制造。ArF光刻胶一直是半导体制程领域性能最可靠、使用最广泛的光刻光源。

　　半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类，分别是紫外全谱（300～450nm）、G 线（436nm）、 I 线（365nm）、深紫外（DUV，包括248nm和193nm）和极紫外（EUV），相对应于各曝光波长的光刻胶也由此而生。通常来说，波长越短，加工分辨率越佳。

　　目前半导体用光刻胶，主要分为5个种类：g线光刻胶，i线光刻胶，KrF光刻胶，ArF光刻胶和EUV光刻胶。

　　g线、i线、ArF、KrF等，是光刻胶不同产品类型的名称，无需对名称意义做过多深究，只需记住它们的名字，了解它们代表的技术水平就行。

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