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duv

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duv就是深紫外光，主要是指波长小于i-line365nm的紫外光，一般工业上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化学增幅型的光刻胶。

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duv技术

浅谈不同阶段光刻机工作方式

在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数...

2024-03-08 标签：芯片制造光刻光刻机 1174 0

光刻掩膜版保护膜常见的类型有哪些？

掩膜版保护膜，mask pellicle，是一种透明的薄膜，在生产中覆盖在掩膜版的表面。顾名思义，主要对掩膜版起物理与化学保护作用。

2024-01-04 标签：光刻 EUV 芯片制程 1100 0

光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图

光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，...

2023-12-18 标签：集成电路摩尔定律光刻机 1168 0

什么是EUV光刻？EUV与DUV光刻的区别

EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。

2023-10-30 标签：芯片设计光刻 EUV 2590 0

深紫外光子灭活技术

厦门大学康俊勇教授、尹君副教授课题组根据致病菌中遗传物质、蛋白质的紫外光吸收特性，开发了一种由275-nm氮化物LED组成的大功率（3.2 W）且辐照均...

2023-10-17 标签：led DUV 1124 0

DUV与EUV***的芯片加工流程详解

SSMB就产生了和FEL类似的“微聚束”，但是关键还加上了“稳态”。FEL不是稳态，电子团在波荡器里自由互相作用，最后发出强光完事。SSMB是让电子束在...

2023-09-22 标签：芯片芯片制造光刻 2885 0

半导体行业之ICT技术的工艺流程

CMOS集成电路芯片加工技术的几个主要发展发生在20世纪90年代。

2023-07-28 标签：半导体接触电阻 LDD接口 1629 0

芯片制造和传统IC封装的生产有何不一样

DUV是深紫外线，EUV是极深紫外线。从制程工艺来看，DUV只能用于生产7nm及以上制程芯片。而只有EUV能满足7nm晶圆制造，并且还可以向5nm、3n...

2023-07-10 标签：集成电路芯片制造光刻机 916 0

国产***EUV与DUV的分类

DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithogr...

2023-03-20 标签：光刻机 EUV DUV 1.3万 0

剖析***的种类与原理

用于集成电路制造的光刻机有两种：半导体光刻机和光学（光刻）光刻机。下面将分别介绍这两种光刻机的相关知识。半导体光刻机是根据芯片制造的工艺和设备来划分的，...

2023-03-03 标签：芯片集成电路半导体 7952 0

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