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标签 > euv光刻机
极紫外线光刻机是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产。2018年4月,中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV(极紫外线)光刻机,于2019年初交货。
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在制造芯片的过程中,光刻工艺无疑最关键、最复杂和占用时间比最大的步骤。光刻定义了晶体管的尺寸,是芯片生产中最核心的工艺,占晶圆制造耗时的40%到50%。...
IMEC和ASML研发低至1nm工艺的高分辨率EUV光刻技术
摩尔定律还没有结束。日媒报道,由于新型冠状病毒的传播,近期日本ITF于11月18日在日本东京举行了网上发布会。 IMEC公司首席执行官兼总裁Luc Va...
海思工程师成香饽饽!华为围猎半导体人才?IC人才跳槽呈现哪些风向标
面临美国制裁,华为海思一些项目无法开展,华为如何通过内聘渠道发挥他们最大才能?华为挖人给行业带来哪些影响?科创板开启后,芯片企业崛起,给IC人才的脱颖而...
作为半导体芯片生产过程中最重要的装备,光刻机一直牵动人心。事实上,制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。
ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限
一、2021年的交付量将是2019年的两倍左右 据国外媒体报道,在推出两代极紫外光刻机之后,阿斯麦公司又已在研发下一代极紫外光刻机,计划2022年年初开...
近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也...
ASML研发第二代EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%
据韩媒报道称,ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜,通过提升透镜规格使得新一代光...
当前半导体制程微缩到10纳米节点以下,包括开始采用的7纳米制程,以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程,EUV极紫外光光刻技术已成为不可或缺的设备。藉由E...
在光刻机领域,荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场,在EUV光刻机中更是独一份,7nm及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。在高科技领域,美国这一年...
尽管EUV现在还存在各种障碍,但是其未来应用前景依然各方被看好。从长远角度来看,发展EUV技术是非常必要的。对此,林雨指出:“自上世纪九十年代起,中国...
台湾地区科技部长陈良基9日表示,半导体为产业竞争力核心,台积电10纳米制程已进入量产,2年后将进入7纳米,不到5年将进入3纳米、2纳米,届时将面临物理极...
推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗?这也不太可能,7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺,研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15...
进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折...
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