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EUV光刻技术 - 即将在芯片上绘制微小特征的下一代技术 – 原来是预计在2012年左右投产。但是几年过去了,EUV已经遇到了一些延迟,将技术从一个节点推向下一个阶段,本单元详细介绍了EUV光刻机,EUV光刻机技术的技术应用,EUV光刻机的技术、市场问题,国产euv光刻机发展等内容。
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对于芯片制造有一定了解的朋友都知道,想要制造芯片是离不开EUV光刻机的,但中国并没有达到能独立制造EUV光刻机的地步。所以很多时候,中国制造芯片都需要依...
今天,英特尔新任首席执行官Pat Gelsinger在一场演讲中概述了在对英特尔未来几年的愿景。在题为“英特尔释放:未来
尽管消息称中芯国际14nm及以上制程的客服、备品与机台等相关出口申请获得许可,但10nm以下仍被卡脖子,尤其是已经技术开发完整只等EUV光刻机进场的7nm。
解读ASML澄清中芯国际购买协议事件和EUV与DUV的差异性
近日,中芯国际与ASML达成12亿美元交易购买晶圆生产设备的消息引发关注。针对双方此次合作,有媒体报道称“除了 EUV 光刻机,中芯国际几乎可以买到其他...
为什么这很重要?在引入EUV系统之前,最先进的IC是使用DUV浸没式光刻系统制造的。这些DUV系统在193nm的光波长下无法到达7nm节点,因此EUV取...
清华团队实验演示稳态微聚束成功, 有望为EUV光刻光源提供新技术路线
实验展示了如何结合现有两类主要加速器光源——同步辐射光源及自由电子激光——的特性。同步辐射设备发射的光子具有高重复率,但由于它们的时间不相干性,功率相对...
在芯片制造的产业链中,光刻机是必不可少的精密设备,是集成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。“我国EUV光刻机的自主研发还有很长的路要走,基于SSMB...
3月3日晚间,中芯国际在港交所公告,根据批量采购协议已于2020年3月16日至2021年3月2日的12个月期间,就购买阿斯麦产品与阿斯麦集团签订购买单,...
EUV光刻机,一直是中国芯片制造无法进一步升级的掣肘。去年9月份,时任中国科学院院长白春礼公开表态称,将集中精力攻克光刻机难题。不到半年时间,中国科学家...
由于西方的禁运,中国芯片制造业无法得到EUV设备。但是全球能使用EUV的逻辑工艺制程制造商仅只有三家,分别是台积电、三星及英特尔。
在ISSCC 2021国际固态电路会议上,台积电联席CEO刘德音公布了该公司的最新工艺进展情况,指出3nm工艺超过预期,进度将会提前。 不过刘德音没有公...
在芯片制造过程中,任何一点小瑕疵都可能造成整批芯片的报废。因此,这一过程中晶圆监测必不可少,可以保证芯片的良品率和控制成本。
存储芯片厂商SK海力士宣布,其公司位于韩国首尔南部利川市的M16新厂已经竣工,SK海力士将首次使用极紫外辐射(EUV)光刻机在生产存储芯片。SK海力士经...
ASML宣布了一项合作成果:在印刷24nm节距线方面取得突破
本周在SPIE高级光刻会议上,世界领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心IEMC与世界领先的半导体光刻设备制造商ASML宣布了一项合作成果。在印刷24n...
SK海力士(或“公司”,www.skhynix.com )在韩国京畿道利川总部以“We Do Technology,开启幸福”为主题举行M16新厂竣工仪...
SK 海力士 M16 新厂已竣工:首次使用极紫外辐射(EUV)光刻机在生产存储芯片
存储芯片厂商 SK 海力士 2 月 1 日宣布,其公司位于韩国首尔南部利川市的 M16 新厂已经竣工,SK 海力士将首次使用极紫外辐射(EUV)光刻机在...
2月1日,SK海力士M16工厂在韩国京畿道利川总部举行竣工仪式。 据韩国媒体FETV报道,SK海力士M16工厂于2018年11月开始建设,共投资了3.5...
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