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euv

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EUV光刻技术 - 即将在芯片上绘制微小特征的下一代技术 – 原来是预计在2012年左右投产。但是几年过去了,EUV已经遇到了一些延迟,将技术从一个节点推向下一个阶段,本单元详细介绍了EUV光刻机,EUV光刻机技术的技术应用,EUV光刻机的技术、市场问题,国产euv光刻机发展等内容。

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先进制程显然对吸引高利润率业务极为关键,各家企业早在各个节点上展开时间竞赛。如今,先进制程的战役已在10纳米开锣,继台积电与联发科共同推出10纳米产品H...

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ASML与卡尔蔡司合作研发EUV光刻系统 2024年问世

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三星携EUV微影技术7nm工艺加入半导体制程大战

在这场最先进工艺产能的竞争中,随着三星和Intel的加入,无论是哪一家获得苹果或高通的芯片订单,没有获得这两家大客户订单的半导体代工厂都会争取大陆的芯片...

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半导体产业中重要一环:EUV光刻最新进展如何

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2016年EUV降临 半导体格局生变

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芯片突破摩尔定律?英特尔说EUV光刻技术可做到

据美国科技博客BusinessInsider报道,在近50年的科技发展中,技术变革的速度一直遵循着摩尔定律。一次又一次的质疑声中,英特尔坚定不移地延续着...

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ASML:预计2015年可发布首款量产型EUV机台

设备供应商艾司摩尔(ASML)已协同比利时微电子研究中心(IMEC)和重量级晶圆厂,合力改良EUV光源功率与晶圆产出速度,预计2015年可发布首款量产型...

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据国际物理系统研讨会(ISPD)上专家表示:实现14纳米芯片生产可能会比原先想象的更困难;14纳米节点给设计师带来了许多挑战。这些困难和挑战何在?详见本文...

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浸润式微影技术强势晋级,EUV技术可有出头日?

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2012-07-19 标签:EUVASML 1422 0

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