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EUV光刻技术 - 即将在芯片上绘制微小特征的下一代技术 – 原来是预计在2012年左右投产。但是几年过去了,EUV已经遇到了一些延迟,将技术从一个节点推向下一个阶段,本单元详细介绍了EUV光刻机,EUV光刻机技术的技术应用,EUV光刻机的技术、市场问题,国产euv光刻机发展等内容。
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ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效...
根据英特尔的新规划,Intel 14A工艺有望在2026年与我们见面,而更先进的Intel 14A-E工艺则预计将在2027年问世。
根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥资入股了AS...
佳能近日表示,计划年内或明年上市使用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术,虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢,...
英特尔和台积电都在技术上投入资金。三星和其他内存制造商必须跟上技术节点的转变,即使同时保持产能远离市场。他们需要跟上技术的步伐,以在摩尔定律的基础上保持...
台积电的2nm技术是3nm技术的延续。一直以来,台积电坚定地遵循着每一步一个工艺节点的演进策略,稳扎稳打,不断突破。
得益于极致紫外线(EUV)设备抢手,ASML第四季度订单预估额高达91.9亿欧元(折合99.8亿美元),比第三季度的26.02亿欧元足足翻了近三番。根据...
在2023年12月举办的“Semicon Japan”演讲中,SEMI演讲者预计2025年相关投资额将达到1,250亿美元。
SK海力士拟将无锡C2工厂升级为第四代D-ram工艺,并引进EUV技术
Sk海力士期望通过在无锡工厂完成第四代D-RAM制造环节中的部分工艺流程,随后将芯片运回韩国总部利川园区进行EUV处理,最后送回无锡工厂进行后续操作。尽...
比利时纳米电子创新中心imec和日本化学公司三井化学宣布建立战略合作伙伴关系,将下一代EUV半导体光刻系统的关键组件商业化。
Imec 与三井化学公司签署战略合作协议,将用于 EUV 光刻技术的 CNT 薄膜技术商业化
来源:半导体芯科技 SiSC编译 鲁汶(比利时),2023 年 12 月 14 日 — 世界领先的纳米电子和数字技术研究和创新中心 Imec 与日本领先...
英特尔从以色列政府获得32亿美元拨款 用于建设250亿美元芯片工厂
来源:Silicon Angle 英特尔公司已获得以色列政府32亿美元的拨款,用于在该国建造一座价值250亿美元的新芯片工厂。 该公司近日宣布了这项交易...
使用13.5nm波长的光进行成像的EUV光刻技术已被简历。先进的逻辑产品依赖于它,DRAM制造商已经开始大批量生产。
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
ASML即将上任的首席执行官Christophe Fouquet面临的最大挑战将是带领公司进入一个新时代,救火员工程文化必须改变。
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