与平面工艺相比，FinFET的复杂性一般会导致更加昂贵的制造工艺，FinFET降低了工作电压，提高了晶体管效率，对静态功耗（线性）和动态功耗（二次方）都有积极作用。可节省高达50%的功耗。性能也更高——在0.7V上，性能（吞吐量）比平面工艺高37%。