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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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Line Edge Roughness (LER) 线边缘粗糙度
来源:C Lighting 线边缘粗糙度(LER) 线边缘粗糙度(LER)指的是栅极图案边缘的随机变化,即印刷图案边缘的粗糙度。当最小特征尺寸减小到几十...
国产突破!初创企业用塑料码盘代替精密光栅?破解光栅编码器光刻工艺"卡脖子"难题
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掩膜版作为微纳加工技术中光刻工艺所使用的图形母版,在IC、平版显示器、印刷电路版、微机电系统等领域具有广泛的应用。随着信息技术和智能制造的快速发展,特别...
掩膜版(Photomask),又称光罩,是芯片制造光刻工艺所使用的线路图形母版。它如同照相过程中的底片,承载着将电路图形转印到晶圆上的重要使命。掩膜版主...
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