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光刻技术

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随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。

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光刻技术帖子

Prolith和HyperLith‌主要用于mask-in-stepper lithography仿真、光刻设计

标签：光刻技术 122 1

Prolith和HyperLith的优劣势

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关于高密度布线技术有什么要求？

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193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

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光刻技术原理及应用

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集成电路加工光致抗蚀剂概念与光刻技术的介绍立即下载

类别：工控技术 2017-09-29 标签：光刻技术光致抗蚀剂 2221 0

物理接触式光刻技术和以Photons为光源的光刻技术介绍立即下载

类别：显示及光电 2017-09-29 标签：光刻技术 757 0

光刻技术的发展与应用立即下载

类别：IC中文资料 2013-12-10 标签：光刻技术 521 0

摩尔定律全靠它_CPU光刻技术分析与展望立即下载

类别：IC中文资料 2013-12-10 标签：摩尔定律光刻技术 933 0

半导体光刻技术及设备的发展趋势立即下载

类别：半导体技术论文 2011-10-31 标签：半导体光刻技术 1034 0

光刻技术资讯

7纳米工艺面临的各种挑战与解决方案

本文介绍了7纳米工艺面临的各种挑战与解决方案。一、什么是7纳米工艺？在谈论7纳米工艺之前，我们先了解一下“纳米”是什么意思。纳米（nm）是一个长度单...

2024-12-17 标签：工艺光刻技术 7纳米 210 0

最新CMOS技术发展趋势

随着科技的飞速发展，CMOS技术也在不断进步，以满足日益增长的性能需求。从最初的简单逻辑门到现在的复杂集成电路，CMOS技术已经成为推动数字革命的关键力...

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美投资8.25亿美元建设NSTC关键设施,重点发展EUV光刻技术

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2024-11-01 标签：光刻技术 EUV ASML 339 0

日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术

近日，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）发布了一项重大研究报告，宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外（EUV）光刻技术。这一创新技术超越了当前半导体...

2024-08-03 标签：光刻技术 EUV 965 0

拯救摩尔定律的浸润式光刻技术

来源： ASML阿斯麦光刻人类每天都在推动技术进步，不断拓展可到达的技术边界，而这些新科技的实现背后离不开芯片技术的支持。如今风靡全世界的人工智能、数...

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阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用

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2024-06-06 标签：半导体光刻技术 ASML 652 0

台积电转变态度？秘密访问ASML总部引发行业关注

宿敌英特尔则积极投身于新兴高数值孔径超紫外光刻领域，已有数台设备投入其芯片制造部门使用。据透露，英特尔正计划在即将推出的18A（1.8纳米）工艺节点中试...

2024-05-28 标签：英特尔台积电光刻技术 682 0

三星电子有望在美国获得超过 60 亿美元的补贴

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纳米压印光刻技术应用在即，能否掀起芯片制造革命？

电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于...

2024-03-09 标签：光刻技术 4140 0

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2024-03-05 标签：DRAM 美光光刻技术 704 0

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