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光刻胶

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光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

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光刻胶技术

刻蚀工艺评价的工艺参数以及如何做好刻蚀工艺

在本篇文章中，我们主要介绍刻蚀工艺评价的工艺参数以及如何做好刻蚀工艺。一、刻蚀工艺质量评价 1）刻蚀速率刻蚀速率是指在蚀刻过程中被去...

2024-11-15 标签：光刻胶刻蚀工艺 146 0

一文解读光刻胶的原理、应用及市场前景展望

光刻技术是现代微电子和纳米技术的研发中的关键一环，而光刻胶，又是光刻技术中的关键组成部分。随着技术的发展，对微小、精密的结构的需求日益增强，光刻胶的需求...

2024-11-11 标签：集成电路光刻技术光刻胶 282 0

半导体蚀刻工艺科普

过度蚀刻暴露硅晶圆表面可能会导致表面粗糙。当硅表面在HF过程中暴露于OH离子时，硅表面可能会变得粗糙。

2024-11-05 标签：硅晶圆蚀刻光刻胶 146 0

光刻胶的使用过程与原理

本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。

2024-10-31 标签：芯片半导体光刻胶 199 0

双层胶工艺是什么

随着线条宽度的不断缩小，为了防止胶上图形出现太大的深宽比，提高对比度，应该采用很薄的光刻胶。但薄胶会遇到耐腐蚀性的问题。由此开发出了双层光刻胶技术，这...

2024-10-21 标签：芯片工艺光刻胶 272 0

微型晶体管怎么做出来的

微型晶体管的制造过程 1. 硅晶圆的制备微型晶体管的制造始于硅晶圆的制备。硅晶圆是半导体制造的基础材料，通常采用高纯度的单晶硅制成。硅晶圆的制备过程包...

2024-10-15 标签：晶圆晶体管半导体制造 179 0

光刻胶旋转涂胶的原因

光刻胶是一种有机化合物，它受紫外线曝光后在显影液中的溶解度发生显著变化，而未曝光的部分在显影液中几乎不溶解。

2024-04-30 标签：光刻胶 690 0

一文读懂半导体工艺制程的光刻胶

光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正胶受到紫外光照射的部分在显影时被去除，负胶受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。

2024-04-24 标签：光刻胶半导体工艺 2600 0

用于2.5D与3D封装的TSV工艺流程是什么？有哪些需要注意的问题？

上图是TSV工艺的一般流程。TSV，全名Through-Silicon Via，又叫硅通孔工艺。

2024-04-17 标签：CMP TSV 光刻胶 1389 0

半导体晶圆的制造流程

在自然界中，获取成本最低的半导体就是硅。而硅料的提取是熔炼砂子。提到这里可能有朋友想到“光伏电池片用的也是硅片”。

2024-04-16 标签：光伏电池光刻胶晶圆制造 777 0

光刻胶帖子

标签：光刻胶单层板 4681 1

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标签：光刻胶华强芯城 3765 2

标签：集成电路光刻胶 6533 0

光刻胶资料下载

光刻胶az1500产品说明立即下载

类别：规则标准 2022-08-12 标签：光刻胶 962 0

光刻胶与光刻工艺技术立即下载

类别：电子教材 2011-03-09 标签：光刻光刻胶 1513 0

光刻胶资讯

光刻胶的主要技术参数

分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸...

2024-11-15 标签：分辨率光刻胶 286 0

光刻胶清洗去除方法

光刻胶作为掩模进行干法刻蚀或是湿法腐蚀后，一般都是需要及时的去除清洗，而一些高温或者其他操作往往会导致光刻胶碳化难以去除。

2024-11-11 标签：光刻胶 188 0

国产光刻胶通过半导体工艺量产验证

来源：太紫微公司近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，已...

2024-10-17 标签：半导体光刻胶 198 0

掩膜版与光刻胶的功能和作用

掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色，它们的功能和作用各有侧重，但共同促进了芯片的精确制造。‌ 掩膜版‌，也称为光罩、光掩膜或光刻掩膜版，...

2024-09-06 标签：芯片光刻胶掩膜 514 0

如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶？

在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用烘胶台或者烤胶设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要...

2024-08-27 标签：微流控光刻胶 192 0

如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶？

在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀...

2024-08-26 标签：微流控光刻胶 264 0

如何成功进行微流控SU-8光刻胶的紫外曝光？

为了成功紫外曝光并且根据所需要的分辨率，光刻胶掩模必须尽可能的靠近SU-8光刻胶放置，不要有任何干扰。如要这样做，可检查如下几件事。首先，光掩模和晶圆...

2024-08-23 标签：微流控光刻胶掩膜 262 0

日企大力投资光刻胶等关键EUV材料

日本在EUV光刻领域保留着对供应链关键部分的控制，例如半导体材料。据了解，芯片制造涉及19种关键材料，且多数都具有较高技术壁垒，而日本企业在其中14种...

2024-07-16 标签：光刻胶 174 0

导致光刻胶变色的原因有哪些？

存储时间正胶和图形反转胶在存储数月后会变暗，而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料，在可见光谱的部分具有很强的吸...

2024-07-11 标签：光刻胶 448 0

光刻胶涂覆工艺—旋涂

为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性，必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中，是一种高粘度材料。根据工艺要求，有许多工艺...

2024-07-11 标签：光刻胶 629 0

光刻胶数据手册

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