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标签 > 微影技术
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半导体工业在光学微影技术的帮助下,长期形成持续且快速的成长态势,但光学微影在面对更精密的制程已开始出现应用瓶颈,尤其在小于0.1微米或更精密的制程,必须...
设备供应商艾司摩尔(ASML)已协同比利时微电子研究中心(IMEC)和重量级晶圆厂,合力改良EUV光源功率与晶圆产出速度,预计2015年可发布首款量产型...
晶圆代工厂迈入高投资与技术门槛的鳍式场效电晶体制程世代后,与整合元件制造商的竞争将更为激烈,因此台积电正积极筹组大联盟,串连矽智财、半导体设备/材料,以...
专家们一致认为,过去几十年来一直扮演半导体创新引擎的摩尔定律(Moore“s Law ),正由于下一代超紫外光(EUV)微影技术的延迟而失去动力。
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