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拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。
根据公告内容,这个名为“高端半导体设备产业化基地建设项目”的项目将由拓荆科技与其子公司共同进行,涵盖千级生产洁净间、立体
拓荆科技2023年业绩预增,预计净利润6亿至7.2亿元,同比增长62%
业务收入增幅达52.44%-64.17%,得益于公司加大研发力度,攻克核心技术难题,在制程更新换代中取得重大业绩突破。数
拓荆科技成立于2010年,是国内唯一一家针对薄膜沉积领域实现pecvd和sacvd产业化的公司,也是ald领域的国内龙头
拓荆科技:PE-ALD设备已实现量产,Thermal-ALD设备正在客户端验证
在混合键合设备的进展方面,拓荆科技表示,一款名为dione 300的产品通过客户认证并反复订购,一款名为pollux的产
今日,拓金科技股份有限公司正式于上海证券交易所科创板上市,股票代码为688072。 本次拓荆科技发行了3161.98万股
国内PECVD设备唯一产业化厂商 拓荆科技申请科创板IPO申请获受理
7月12日,拓荆科技股份有限公司(简称“拓荆科技”)申请科创板上市已获受理。根据招股书,拓荆科技拟募集资金10.00亿元
拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品先进水平,产品主要应用于集成电路晶圆制造,以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。公司在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术服务。
公司现有十余名海外高层次专家,结合国内优秀人才,形成了一支国际化的专业团队,具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累,公司已形成自主知识产权的核心技术群及知识产权体系,被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。
公司总部坐落于沈阳市浑南区,占地80亩,拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房,总建筑面积达40,000平方米。第一期生产能力可实现年产100台套,全部投产可达350台套设备,可以满足下游客户增产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证,并拥有覆盖全球的供应商网络。
拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟,为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。
根据公告内容,这个名为“高端半导体设备产业化基地建设项目”的项目将由拓荆科技与其子公司共同进行,涵盖千级生产洁净间、立体库房以及测试实验室等多项设施。项...
拓荆科技2023年业绩预增,预计净利润6亿至7.2亿元,同比增长62%
业务收入增幅达52.44%-64.17%,得益于公司加大研发力度,攻克核心技术难题,在制程更新换代中取得重大业绩突破。数码设备销售额回升,PECVD设备...
拓荆科技成立于2010年,是国内唯一一家针对薄膜沉积领域实现pecvd和sacvd产业化的公司,也是ald领域的国内龙头企业。公司目前已进入中芯国际、长...
拓荆科技:PE-ALD设备已实现量产,Thermal-ALD设备正在客户端验证
在混合键合设备的进展方面,拓荆科技表示,一款名为dione 300的产品通过客户认证并反复订购,一款名为pollux的产品为客户端认证而出库。结合设备市...
今日,拓金科技股份有限公司正式于上海证券交易所科创板上市,股票代码为688072。 本次拓荆科技发行了3161.98万股,每股价格为71.88元,募资总...
国内PECVD设备唯一产业化厂商 拓荆科技申请科创板IPO申请获受理
7月12日,拓荆科技股份有限公司(简称“拓荆科技”)申请科创板上市已获受理。根据招股书,拓荆科技拟募集资金10.00亿元,计划投资于高端半导体设备扩产项...
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