蚀刻工艺

不同氮化镓蚀刻技术的比较

GaN作为宽禁带III-V族化合物半导体最近被深入研究。为了实现GaN基器件的良好性能，GaN的处理技术至关重要。目前英思特已经尝试了许多GaN蚀刻方法...

2023-12-01 标签：半导体晶圆氮化镓 695 0

将铜互连扩展到2nm的研究

晶体管尺寸在3nm时达到临界点，纳米片FET可能会取代finFET来满足性能、功耗、面积和成本目标。同样，正在评估2nm铜互连的重大架构变化，此举将重新...

2023-11-14 标签：半导体晶圆蚀刻工艺 388 0

等离子体基铜蚀刻工艺及可靠性

近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。传统上，化学机械抛光(CMP)方法用于制...

2023-11-08 标签：等离子体等离子蚀刻工艺 469 0

降低半导体金属线电阻的沉积和蚀刻技术

铜的电阻率取决于其晶体结构、空隙体积、晶界和材料界面失配，这在较小的尺度上变得更加重要。传统上，铜(Cu)线的形成是通过使用沟槽蚀刻工艺在低k二氧化硅中...

2023-09-22 标签：半导体蚀刻蚀刻工艺 658 0

低能量电子束曝光技术

直接蚀刻和剥离是两种比较流行的图案转移工艺。在直接蚀刻工艺中，首先使用光刻技术对聚合物抗蚀剂进行构图，然后通过干法蚀刻技术用抗蚀剂作为掩模将图案转移到衬...

2023-09-07 标签：半导体蚀刻工艺电子束 535 0

耐蚀点蚀镀铜工艺

随着5G技术的推出，导致电子电路和IC基板在设计中要求更高的密度。由于5G应用的性质，这些设计中的高可靠性和出色的电气性能也越来越重要。

2023-09-01 标签：半导体镀铜工艺蚀刻工艺 3129 0

酸蚀刻对钛医药材料纳米形态表面特性及活化能的影响

钛金属具有较高的比强度和生物相容性，并且由于在金属表面自发形成的钝化膜而具有优异的抗蚀刻性。这种薄氧化膜在空气中容易形成，保护内部活性钛金属免受侵蚀性介...

2023-09-01 标签：传感器半导体蚀刻工艺 409 0

六氟化硫等离子体的热反应离子蚀刻

众所周知，微机电系统(MEMS)严重依赖于集成电路制造中使用的材料，例如单晶硅。然而，由于金属、玻璃和压电陶瓷的特殊性质，这些材料在MEMS中的使用正在...

2023-09-01 标签：集成电路半导体晶圆 374 0

单片微波集成电路中砷化镓的干蚀刻

目前高功率砷化镓基单片微波集成电路(MMICs)已广泛应用于军事、无线和空间通信系统。使用连接晶片正面和背面的衬底通孔，这些MMICs的性能显著提高。

2023-07-13 标签：集成电路半导体蚀刻工艺 597 0

浅谈蚀刻工艺开发的三个阶段

纳米片工艺流程中最关键的蚀刻步骤包括虚拟栅极蚀刻、各向异性柱蚀刻、各向同性间隔蚀刻和通道释放步骤。通过硅和 SiGe 交替层的剖面蚀刻是各向异性的，并使...

2023-05-30 标签：晶体管蚀刻工艺3d nand 1625 0

电力输送、材料和互连领域即将发生巨大变化

在设备互连方面，铜无可匹敌。其低电阻率和高可靠性为业界提供了出色的片上互连和芯片间连线服务。但在逻辑芯片中，随着互连堆栈上升到14级范围，并且阻容(RC...

2023-11-10 标签：半导体晶圆蚀刻工艺 357 0

三星要把3D NAND堆到1000层以上

3D设计引入了多晶硅和二氧化硅的交替层，并将浮栅交换为电荷陷阱闪存 (CTF)，区别在于FG将存储器存储在导电层中，而CTF将电荷“捕获”在电介质层中。...

2023-07-04 标签：NAND蚀刻工艺三星 947 0

蚀刻工艺 蚀刻过程分类的课堂素材4（上）

蚀刻工艺 蚀刻过程分类

2022-08-08 标签：蚀刻工艺 1111 0

表面活性剂的影响 -工艺课堂素材5（下）

figure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5B/8F/pYYBAGLs4...

2022-08-05 标签：蚀刻工艺 482 0

蚀刻工艺课堂素材5（上）

figure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5A/F0/poYBAGLs2...

2022-08-05 标签：蚀刻工艺 777 0

半导体蚀刻工艺课堂素材分享（3）（三）

figure class=imageimg src=https://file.elecfans.com/web2/M00/5A/91/pYYBAGLqP...

2022-08-03 标签：半导体蚀刻工艺 913 0

超声波频率对化学蚀刻工艺有什么影响

引言 在这项工作中，超声增强化学腐蚀被用来制作多孔硅层。通过使用HF溶液和HNO3在p型(111)取向硅中制备多孔硅层。发现超声波改善了p型硅上多孔硅层...

2022-05-10 标签：超声波蚀刻工艺 1212 0