长江后浪推前浪，比《流浪地球》更硬核的光刻新纪元神作“EUV”已诞生！

2019年开年，电影《流浪地球》便迅速占据话题榜首，并凭借硬核的电影特效被誉为“开启中国科幻电影元年”的划时代作品。这若要说到半导体行业的划时代作品，那咱就不得不自豪地要说说自家的明星产品——EUV！站在皇冠上明珠之巅的、享誉全球的极紫外***。

今天，我们就来聊聊

这个超硬核开创新纪元神作之前世今生。

其实

早在设备技术的研发阶段，EUV曾受到业界的质疑，这一遭遇和曾被称作“小破球”的《流浪地球》颇为相似。

研发前期，可用于生产的13.5纳米的光源产生等技术难点曾被许多专家认为不可突破。而在过去十余年，我们与客户一同面对重重挑战，ASML数以千计的工程师更是攻坚克难、全情投入研发，突破一个又一个技术难点，以创新性思维解决问题，探索如何更有效将等离子体转换为EUV光源。

历经多年打磨，2017年初ASML收获数十亿欧元EUV设备订单的消息，让那些曾经的流言蜚语不攻自破，让“EUV永远不可能用于芯片制造”的怀疑论者集体哑火。

EUV的“划时代”意义不仅仅是因为它极大地简化了工艺流程，更在于它将全面支持我们的客户推进7纳米逻辑芯片和16纳米DRAM工艺制程朝更尖端的方向发展。

自此，一个属于EUV的时代开启了。

众所周知，单位时间内的晶圆产量提升是EUV商业价值的重要指标。2006年，我们的第一台EUV原型需要超过21个小时才能曝光完成一片完整的晶圆，妥善率（availability）小于10%。而进入新一代EUV曝光技术，2018年ASML的NXE:3400B已在客户端测试中，实现每小时125片晶圆的产量里程碑，更达成80%以上妥善率（availability）。EUV系统的运行速度，已在过去十余年间提高了2,600倍，这是质的飞跃。

推动高量产的“幕后英雄”是EUV光源的突破性创新。正是ASML工程师们不拘泥于固有思维的创新精神，探索出光强更大的EUV光源，来提供加速曝光晶圆所需的能量。就好像《流浪地球》电影最后转折式以引爆空间站来点燃火星的做法最终保护了人类的地球，ASML科学家Alex Schafgans也曾这样评述EUV光源技术的探索过程：“我们并没有按照原本规划的方案走，之前我们计划输出更为强力的激光射线，但取而代之的，我们探索出如何更有效地将等离子体转换为EUV光源。”

目前

ASML 已与卡尔蔡司公司合作开发出数值孔径为0.33的EUV***镜头，并积极研发下一代0.55高数值孔径(High-NA)光学系统，为推进3纳米及以下制程做努力。该光学系统与多重成像技术相比，成本将降低50%，周期时间将缩短3到6倍，并具备一流的套刻和聚焦性能。

但ASML不止于当下的成功，我们更着眼于未来，ASML将在今年推出新一代的EUV光刻设备NXE：3400C，预计每小时达到170片晶圆产量，妥善率（availability）更将超过90％。该系统计划于2019年下半年供货至我们的客户。

更好的光学器件、高效的光源、更好的支持芯片量产……无数ASML人共同的努力，奠定了最先进EUV光刻系统的诞生，更成就了半导体行业里程碑，我们将一以贯之，带领人类一起跨越科技史上的又一高峰。