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电子发烧友网>光电显示>LGD引进尼康步进式光刻机 以加快将业务重心转向OLED

LGD引进尼康步进式光刻机 以加快将业务重心转向OLED

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这台超级设备能改变中国芯的命运吗?

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LGD | 上调LGD OLED面板价格

据传, LG Display(LGD)供应LG电子的OLED电视面板价格曾有过一轮涨价动作。LGD今年开始因面板价格下跌影响亏损不断的情况下,LG电子是否会对LGD进行新一轮涨价备受业界瞩目。
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LGD将会小幅提升OLED电视面板的价格,来扭转OLED业务亏损的局面

有消息指出,随着电视需求的大幅增加,为扭转OLED业务亏损的局面,LGD将小幅提升OLED电视面板的价格,预计下半年或有2-3%幅度上涨。
2018-10-11 10:50:03766

尼康和ASML以及蔡司达成和解 尼康与ASML将交换未来十年0.8%沉浸式光刻销售收入

在2年前尼康向ASML以及其合作伙伴蔡司发起法律诉讼,指二者在未经尼康允许将微影技术用于旗下光刻机,扯皮两年多后,三方总算达成和解。
2019-01-24 15:58:024630

光刻机有什么用

光刻机的作用有多大,在这时候就体现出来了。即便是自己能够研发出芯片了,但是没有光刻机还是不能批量生产。并且就现在来说国际上的光刻机咱们国家大陆地区还是买不到的,似乎是在进行技术封锁,这也就苦了华为这样能够自主研发芯片的公司。
2019-03-13 15:16:0720007

光刻机是干什么用的

光刻机的作用,顾名思义,就是“用光来雕刻的机器”。是用来实现上面说到的“光线侵蚀光刻胶”的目的的。
2019-03-14 14:12:01214098

为何光刻机不卖给中国

谈起光刻机相信大家首先想到的是荷兰,确实如此,荷兰光刻机在全球都是数一数二的,就连最顶尖的光刻机制造公司ASML也位于荷兰,二荷兰光刻机之所以这么出名,很大程度是由于荷兰在这方面下了很大的功夫,比如技术投入、研发团队以及资金投入都是其他国家难以比拟的。
2019-03-14 14:17:5417823

一份关于国产光刻机龙头——上海微电子的介绍

光刻机应用广泛,包括IC前道光刻机、用于封装的后道光刻机以及用于LED领域及面板领域的光刻机等等。封装光刻机对于光刻的精度要求低于前道光刻要求,面板光刻机与IC前道光刻机工艺相比技术精度也更低,一般为微米级。
2019-04-28 13:55:52228197

国产光刻机加快研发 有望打破垄断格局

研究所作为战略投资者,两家机构以无形资产作价10亿元入股,对应持股比例为33.33%。这意味着北京在推动国产光刻机核心部件生产方面迈出实质性步伐,将加快突破国产中高端光刻机制造“卡脖子”技术难题。
2019-08-12 16:22:223222

光刻机为何在我国是个难题

 光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前,ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术,但是上海微电子经过17年的努力,才造出90nm的光刻机,这已经十分不容易了,这可是0的突破。那么为什么光刻机这么难造呢?
2020-01-29 11:07:007799

光刻机公开全部图纸也模仿不了

众所周知,说起芯片,大家就会想到光刻机,说起光刻机,大家就会想到ASML。因为在芯片生产中,光刻机特别重要,而ASML又是高端光刻机的垄断者,占了85%以上的高端市场。
2020-02-20 20:30:455443

疫情导致LGD的8.5代工厂量产计划延期

集微网据韩国媒体报道,由于韩国面板厂在LCD面板业务不敌中国集团的围攻,包括三星、LGD等已经把主营业务转向OLED。不过在2020年开年之际,新冠疫情打乱了LGD中国广州OLED厂的量产计划。
2020-03-08 18:21:382111

LGD发展重心正逐步转向OLED面板 且希望通过扩大产能和销量来改善公司财务状况

据韩媒BusinessKorea报道,LGD的LCD市场份额已跌至第四位,这反映了LGD为应对价格战,正将发展重心从LCD面板转向OLED面板。
2020-03-09 14:35:57324

光刻机是干什么的

经常听说,高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的,那么什么是光刻机呢?上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程,今天我们就来聊聊什么是光刻
2020-03-15 14:46:00227696

曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度

在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194670

光刻机中国能造吗_为什么中国生产不了光刻机

,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中,性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米,正因如此,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2020-03-18 10:52:1189226

光刻机能干什么_英特尔用的什么光刻机_光刻机在芯片生产有何作用

光刻机是芯片制造的核心设备之一,作为目前世界上最复杂的精密设备之一,其实光刻机除了能用于生产芯片之外,还有用于封装的光刻机,或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前,我国高端的光刻机,基本上是从荷兰ASML进口的。
2020-03-18 11:12:0244388

LG Display计划从尼康引进一台步进光刻机 加快将业务重心转向OLED

据韩媒etnews报道,业内人士透露,LG Display计划本月从尼康引进一台步进光刻机,用于坡州市P10工厂内的10.5代OLED产线。据悉,该公司计划在今年年底前再从尼康引进3到4台步进光刻机,以加快将业务重心转向OLED
2020-03-18 14:04:25543

大族激光研发光刻机项目,其重心放在分立器件与LED领域

众所周知,智能手机芯片制造所需的光刻机一直以来被荷兰ASML公司垄断,一台精密光刻机售价上百亿,而我国半导体行业起步较晚,光刻机技术与ASML的差距非常大。而近期美国对华为芯片制裁升级,引起众多国人激愤,并希望国产芯片技术能够打破壁垒,实现芯片自主。
2020-06-12 14:22:455184

音圈电机在光刻机掩模台系统中的应用

作为芯片制造的核心设备之一,光刻机对芯片生产的工艺有着决定性影响。 据悉,光刻机按照用途可分为生产芯片的光刻机、封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。其中,生产芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999

佳能半导体光刻机新产品即将开售, 可满足高产能大型基板的封装需求

6月23日消息,佳能1将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线2步进光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。
2020-06-29 14:58:053018

开发顶级光刻机的困难 顶级光刻机有多难搞?

顶级光刻机有多难搞?ASML的光刻机,光一个零件他就调整了10年!拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例,其内部精密零件多达10万个,比汽车零件精细数十倍!
2020-07-02 09:38:3911513

中国光刻机和荷兰光刻机有什么区别

芯片是半导体中的积分器,目前芯片的利用率很高,要想在技术领域有所突破,就必须在芯片领域发展。在芯片制造中,最受关注的是光刻机的发展。到目前为止,我国光刻机制造领域还比较缺乏机械。我们的光刻机技术相对
2020-08-02 10:32:3224155

LGD CEO表示已开始将重心由LCD面板转向OLED面板

原本预计 2019 年第 3 季就要投产的 LGD 广州 8.5 代厂,因故延后到 2020 年首季量产,足足延迟了半年的时间。根据报道指出,LGD 广州 8.5 代厂延后投产的原因,在于 LGD
2020-08-19 10:28:25515

提高光刻机性能的关键技术及光刻机的发展情况

作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机(Mask
2020-08-28 14:39:0411746

王毅与荷兰谈光刻机出口问题

【重磅】王毅到访荷兰,期待放行ASML EUV光刻机 来源:中国半导体论坛 彭博引述知情人士消息称,荷兰政府极有可能不会给予ASML向中国出货EUV光刻机的许可证。一年前的许可证到期后,在美国
2020-09-10 14:19:112577

擦肩而过的光刻机

1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机;1970年代,中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺;清华大学研制第四代分部式投影光刻机,并在1980年获得成功,光刻精度达到3微米,接近国际主流水平。而那时,光刻机巨头ASML还没诞生。
2020-09-20 10:35:027124

为什么说,光刻机是整个芯片产业的命门呢?

阿斯麦这家公司有多牛呢?在去年全球的光刻机市场中,阿斯麦占据了74%的市场份额,是不折不扣的巨无霸。他们生产的光刻机,有“印钞机许可证”之称,一台就1.2亿美元。
2020-09-20 10:41:143356

政策助力光刻机行业发展,我国光刻机行业研发进度仍待加快

光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备,光刻工艺决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162

LGD正在积极推动OLED电视面板业务发展

LGD激进的OLED电视面板市场策略,让Omdia对LGD OLED电视面板业务持乐观态度。市场研究公司Omdia预测,今年LGD OLED电视面板营收将占电视面板业务总营收的55%,比重高于去年的33%。
2020-10-14 10:46:392076

1.2亿美元光刻机

荷兰阿斯麦(ASML)公司的光刻机作为世界上最贵最精密的仪器,相信大家都有耳闻,它是加工芯片的设备。其最先进的EUV(极紫外光)光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片,据说一套最先进的7纳米EUV
2020-10-15 09:20:054438

一文详解光刻机的工作原理

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。
2020-10-16 10:33:39311071

如何制造一台光刻机到底多困难

近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门,我们今天也来探讨一下光刻机的话题。
2020-10-17 11:32:148260

一文详解光刻机技术

最近光刻机十分火,我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机,但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机,5纳米光刻机,我为什么会这样说呢?
2020-10-19 11:42:5120305

EUV光刻机还能卖给中国吗?

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499648

ASML向中国出售EUV光刻机,没那么容易

中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说,就是 EUV (极紫外光源)光刻机
2020-11-11 10:13:304278

光刻机巨头ASML为什么能成功?

在芯片制造环节中,光刻机是核心设备。没有光刻机,半导体或遭断链危机,摩尔定律将停止,人类也就无法设计、制造和封装硅芯片。放眼全球,一家叫做ASML(阿斯麦)的荷兰公司市场占有率达80%,是行业的绝对
2020-11-13 09:28:515165

份额下滑 、订单下滑 尼康将把重点放在中国厂商身上

尼康公司日前宣布裁员10%,大约有2000人会失业,影响主要是光学系统部门,不过这次不只是相机部门裁员,尼康光刻机部门也要寻求新客户了。 ASML现在是全球瞩目的光刻机巨头,EUV光刻机更是独一份
2020-11-23 17:51:371264

国产光刻机之路,任重而道远

荷兰阿斯麦公司作为掌握光刻机系统集成和整体架构的核心企业,自然成了欧美自家的小棉袄,顺利赶上了欧美EUV技术研究发展的风口,投资德国卡尔蔡司,收购美国Cymer光源。集成世界各国顶尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:5518165

佳能即将发售新型光刻机“FPA-3030i5a”

日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一,后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道,佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,用来抢占高功能半导体市场。
2021-01-07 09:03:223005

佳能将推新光刻机,效率提升17%

日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一,后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道,佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,用来抢占高功能半导体市场。
2021-01-07 11:21:093152

佳能时隔7年更新了面向小型基板的半导体光刻机

FPA-3030i5a步进光刻机的硬件和软件已在其前代产品FPA-3030i5步进光刻机(2012年6月发布)基础上进行了升级,以帮助降低CoO。FPA-3030i5a继承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的线宽图案
2021-01-07 17:04:063492

为何EUV光刻机会这么耗电呢

EUV(极紫外光)光刻机,是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来,有不少消息都指出,EUV光刻机耗电量非常大,甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电
2021-02-14 14:05:003915

为什么都抢着买价格更昂贵的EUV光刻机?

目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机,三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机
2021-01-21 08:56:184078

ASML垄断第五代光刻机EUV光刻机:一台利润近6亿

%,净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先,一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机,这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机,带来了45亿欧元(折合352.52亿
2021-01-22 10:38:164677

解析全球光刻机行业发展情况

根据芯思想研究院(ChipInsights)的数据表明,2020年全球集成电路、面板、LED用光刻机出货约58台,较2019年增加3台。其中集成电路制造用光刻机出货约410台;面板、LED用光刻机出货约170台。
2021-02-24 16:56:1211120

中科院5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别?

以下内容由对话音频整理 本期话题 ● EUV光刻机产能如何? ● 晶圆为什么是圆的? ● 不同制程的芯片之间有何区别? ● 什么是逻辑芯片,逻辑芯片又包括哪些? ● 专用芯片与通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476

探究光刻机微影技术是通过什么实现的?

、用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的
2021-03-27 10:00:371469

探究光刻机微影技术是通过什么实现的

用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机
2021-03-30 18:17:272075

光刻机原理介绍

光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

光刻机原理怎么做芯片

光刻机原理怎么做芯片 光刻是集成电路中最重要的工艺,光刻机是制造芯片的核心装备,在芯片的制作中,几乎每个工艺的实施,都需要用到光刻技术。可以说,光刻机是半导体界的一颗明珠。那么光刻机原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869

光刻机需要哪些技术?

没有任何一个国家的人比中国人更想造出顶级光刻机。网友甚至表示,只要造出光刻机,无论一个人做错了什么都可以原谅。
2021-08-26 17:32:3760119

光刻机哪个国家能造

光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备,也是工时和成本占比最高的设备,更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢?
2022-01-03 17:30:0086844

一台光刻机有多少零部件

荷兰ASML作为全球最大的光刻机制造商,占据了世界80%的市场份额。一台高端的光刻机内部零件高达10万件之多,但是其中的零件也并非出自ASML一家,而是集众于多家高科技厂商。
2022-01-03 17:31:009048

光刻机作用及寿命

光刻机作为芯片的核心制造设备,也是当前最复杂的精密仪器之一。其实光刻机不仅可以用于芯片生产,还可以用于封装和用于LED制造领域。
2022-01-03 16:43:0016302

光刻机的核心部件是什么

一台高端的光刻机由上万个零部件构成,光刻机的主要核心部件主要分为两个部分:分别是对准系统和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0016944

光刻机制作芯片过程

光刻机制作芯片过程非常复杂,而光刻机是制造芯片最重要的设备之一,由于先进光刻机的技术封锁,中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后,也没有优秀的国产光刻机来掌握到最先进的光刻技术。
2021-12-30 11:23:2111146

光刻机的曝光方式

光刻机的曝光方式主要有三种,分别是接触式曝光、非接触式曝光和投影式曝光。
2022-01-03 17:31:006983

刻蚀机能替代光刻机

刻蚀机不能代替光刻机光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多,在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到,并且刻蚀机的精度十分笼统,而光刻机对精度的要求十分细致,所以刻蚀机不能代替光刻机
2022-02-05 15:47:0039915

光刻胶和光刻机的关系

光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻机干啥用的

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机光刻机是采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

光刻机是干什么用的 光刻机厂商有哪些

光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备,总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436

俄罗斯签署合同欲研发顶尖X射线光刻机

在半导体的制造中,光刻机作为其中重要的组成部分,其技术非常复杂,价格也十分昂贵。 由于近期冲突,俄罗斯芯片进口遭严重限制,在其国内没有光刻机的情况下,俄罗斯贸工部选择了与俄罗斯莫斯科电子技术学院签署
2022-04-06 10:35:337960

台积电将于2024年引进ASML最新EUV光刻机,主要用于相关研究

日前,在台积电召开的会议上,有一名高管称台积电将于2024年引进ASML正在研发的最新的High-NA EUV光刻机。 会议中,该高管称:为了满足客户所需的相关基础设施的开发等,台积电将于2024
2022-06-17 16:33:276499

中国光刻机现在多少纳米 光刻机的基本原理

众所周知,光刻机一直处于垄断地位,在光刻机领域,最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15288332

euv光刻机三大核心技术 哪些公司有euv光刻机

中国芯的进步那是有目共睹,我国在光刻机,特别是在EUV光刻机方面,更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742

三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息

三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634

euv光刻机可以干什么 光刻工艺原理

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机
2022-07-06 11:03:077000

中国euv光刻机三大突破 光刻机的三个系统

如今世界最先进的EUV光刻机,只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3850686

euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻机是哪个国家的

说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,就无法生产芯片,因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻机
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻机是干什么的

光刻机是大规模集成电路生产的核心设备,它能够制造和维护需要高水平的光学和电子产业基础,全球只有少数制造商掌握了这一基础。 光刻机的作用是对芯片晶圆进行扫描曝光,对集成电路进行蚀刻。精度更高的光刻机
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻机和euv光刻机区别是什么

目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻机原理是什么

euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻机用途是什么

光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116

光刻机为什么这么难呢

芯片想必大家都很熟悉,光刻机是是制造芯片的核心装备,并且光刻机只有一小部分国家拥有,那么光刻机为什么这么难呢? 据说越小的东西,建造起来就越困难。 这句话不是没有道理的。 尽管手机中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:228523

佳能光刻机现在是什么水平?佳能如何看待显示行业寒冬?

相较于半导体光刻机,显示面板设备其实更能算作佳能主场。尤其OLED蒸镀机——从市场份额来看,应当还没有敌手;而曝光机市场,则基本与尼康长期保持对半分。
2022-11-23 10:44:501528

除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?

厂商尼康和佳能为例,他们就仍在坚持开发并扩展自己的光刻机业务尼康 尼康光刻机产品阵容比较全面,包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进光刻机和FPD面板光刻机,基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机
2022-11-24 07:10:033222

上海伯东光刻机氦质谱检漏法

半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
2022-08-04 17:18:09318

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18402

光刻机的发展历程及工艺流程

光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机
2024-03-21 11:31:4143

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