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镀复SiO2膜的电容器介质膜

2009年12月08日 09:03 www.elecfans.com 作者:佚名 用户评论(0

镀复SiO2膜的电容器介质膜

    成功一种能在几百小时连续沉积SiO2膜的新颖电子束蒸发装置,获国家发明专利,在此基础上开发出镀复SiO2膜的电容器介质膜。用镀复SiO2(或AL2O3)膜的PP、PET膜制作电容器,其体积大幅度缩小,介质损耗极小,耐压提高,能在高温下稳定地工作。?

   主要技术性能或技术指标:可镀薄膜:所有有机薄膜与树脂薄膜;薄膜厚度:4-20μ;SiO2膜厚度:500-1000A;损耗角正切:tano≤0.001(1kHZ);日产薄膜:0.5吨应用领域及市场前景: PET、PP等电容器介质薄膜及其金属化介质。? 
?  效益分析:①电容器的性能参数大幅度提高,从而使产品档次提高。②电容器体积缩小,有机薄膜用量减小三分之一以上。? 

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