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电子发烧友网>制造/封装>工艺综述>研发进度落后,商业化进程缓慢 - 光刻技术领域的期盼与黯淡

研发进度落后,商业化进程缓慢 - 光刻技术领域的期盼与黯淡

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2022-01-20 16:17:231706

光刻工艺中使用的曝光技术

根据所使用的辐射,有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻光刻和离子束光刻。在光学光刻技术中,有部分不透明和部分不透明的图案掩模(光片)半透明区域被使用。紫外线辐射或气体激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例减少。
2022-07-27 16:54:533169

沉浸式光刻技术是什么 原理是什么

沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中,其镜头与光刻胶之间的介质是空气,而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上,浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率,其缩短的倍率即为液体介质的折射率。
2022-10-13 16:51:383044

计算光刻技术的发展

计算光刻 (Computational Lithography)技术是指利用计算机辅助技术来增强光刻工艺中图形转移保真度的一种方法,它是分辦率增强技术(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:222274

半导体光刻技术的起源与发展

光刻是半导体工业的核心技术。自1960年Fairchild Semiconductor的罗伯特·诺伊斯发明单片集成电路以来,光刻一直是主要的光刻技术
2022-11-14 11:36:462288

联网技术领域的“GaN 行动”态度

联网技术领域的“GaN 行动”态度
2022-12-26 10:16:26345

前沿开源技术领域的开源大数据一一解读

近日,OSCHINA 和 Gitee 联合发布了《2022 中国开源开发者报告》。 其中 “前沿开源技术领域解读” 部分,多位在其领域有所建树的一线开发者和开源商业化公司创始人,对目前国内
2023-02-21 15:19:50786

GTC 2023:NVIDIA cuLitho将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果

GTC 大会:NVIDIA cuLitho将加速计算引入计算光刻技术领域的突破性成果 在摩尔定律接近物理极限之际,半导体行业要怎么做?借助AI? 现在半导体开始采用NVIDIA在计算光刻技术领域
2023-03-22 19:29:3110234

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍

为2nm及更先进芯片的生产提供更强大的助力。 计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载,每年消耗数百亿CPU小时。而NVIDIA cuLitho计算光刻库利用GPU技术实现计算光刻,可以极大的降低功耗、节省时间。 目前台积电、光刻机制造商阿斯麦,以及EDA巨头新思科技都已经导入
2023-03-23 18:55:377489

智能发电主要涉及什么技术领域

智能发电主要涉及什么技术领域 智能变电涉及的技术领域主要包括变电站信息采集技术、智能传感技术、实时监测技术、状态诊断技术、自适应/自优化保护技术、广域保护技术、协调控制技术和站内智能一次设备技术
2023-04-11 18:11:15636

什么是光刻技术

光刻技术简单来讲,就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程,是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术,CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

浅谈光刻技术

在整个芯片制造过程中,几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术光刻技术也是制造芯片最关键的技术,占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033

一文讲透光刻胶及芯片制造关键技术

在集成电路制造领域,如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”,光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381122

光学光刻技术有哪些分类 光刻技术的原理

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关,而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271

绕开EUV光刻,下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围

电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造技术,首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业,光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下,摩尔定律
2023-07-16 01:50:153009

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