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电子发烧友网>电源/新能源>电源新闻>使用300nm基板制造IGBT - 功率半导体观察:SiC和GaN飞速发展的时代

使用300nm基板制造IGBT - 功率半导体观察:SiC和GaN飞速发展的时代

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半导体的关键特性是能带隙,能带动电子进入导通状态所需的能量。宽带隙(WBG)可以实现更高功率,更高开关速度的晶体管,WBG器件包括氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半导体
2022-04-16 17:13:015712

宽带隙半导体GaN、ZnO和SiC的湿法化学腐蚀

宽带隙半导体具有许多特性,这些特性使其对高功率、高温器件应用具有吸引力。本文综述了三种重要材料的湿法腐蚀,即ZnO、GaNSiC。虽然ZnO在包括HNO3/HCl和HF/HNO3的许多酸性溶液
2022-07-06 16:00:211642

宽带隙半导体GaNSiC 的下一波浪潮

AspenCore 的 2021 年 PowerUP 博览会 用一整天的时间介绍宽带隙 (WBG) 半导体,特别是氮化镓 (GaN) 和碳化硅 (SiC)。WBG 小组讨论的重点是“下一波 GaN
2022-07-29 18:06:26391

氮化镓(GaN)功率半导体之预测

氮化镓(GaN)是一种非常坚硬且在机械方面非常稳定的宽带隙半导体材料。由于具有更高的击穿强度、更快的开关速度,更高的热导率和更低的导通电 阻,氮化镓基功率器件明显比硅基器件更优越。 氮化镓晶体
2023-02-15 16:19:060

使用多个电流探头研究SiCGaN功率半导体器件的电极间电容

本文介绍了使用多个电流探头研究SiCGaN功率半导体器件的电极间电容。它分为四部分:双电流探头法原理、测量结果、三电流探头法原理和测量结果。
2023-02-19 17:06:18350

GaNSiC功率器件的特点 GaNSiC的技术挑战

 SiCGaN被称为“宽带隙半导体”(WBG),因为将这些材料的电子从价带炸毁到导带所需的能量:而在硅的情况下,该能量为1.1eV,SiC(碳化硅)为3.3eV,GaN(氮化镓)为3.4eV。这导致了更高的适用击穿电压,在某些应用中可以达到1200-1700V。
2023-08-09 10:23:39431

sic功率半导体上市公司 sic功率半导体技术如何实现成果转化

sic功率半导体上市公司 sic功率半导体上市公司有三安光电、露笑科技、楚江新材、天通股份、东尼电子、华润微、扬杰科技、捷捷微电、华微电子、斯达半导、闻泰科技等公司,注意以上信息仅供参考,如果想了
2023-10-18 16:14:30586

碳化硅功率器件的优势、应用以及未来发展趋势介绍

随着电力电子技术的飞速发展,碳化硅(SiC)作为一种优秀的半导体材料,在功率器件领域的应用越来越广泛。
2024-01-03 10:13:43363

三安宣布进军美洲市场,为市场提供SiCGaN功率半导体产品

1月8日,Luminus Devices宣布,湖南三安半导体与其签署了一项合作协议,Luminus将成为湖南三安SiCGaN产品在美洲的独家销售渠道,面向功率半导体应用市场。
2024-01-13 17:17:561042

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