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NS 离子蚀刻机 20 IBE-J
上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的离子刻蚀机
 Φ4 inch X 12片 | 基片尺寸 | Φ4 inch X 12片 φ5 inch X 10片 φ6 inch X 8片 |
| 样品台 | 直接冷却,水冷 | |
| 离子源 | Φ20cm 考夫曼离子源 |
伯东 NS 离子蚀刻机主要优点:
1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.
2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.
3. 配置使用美国考夫曼离子源
4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.
5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.
6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.
7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.
NS 离子蚀刻机通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率：
Hakuto NS 日本原装设计制造离子刻蚀机, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对黄金 AU, 铂 PT, 合金等金属及半导体材料也能提供蚀刻. 适用于 MR 薄膜磁头, 自旋电子学, 应力传感器, 射频滤波器, 超导体, 复合半导体材料的刻蚀. NS 蚀刻机可选配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!
若您需要进一步的了解离子蚀刻机详细信息, 请联络上海伯东叶女士 分机107
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