长电科技2021年度保持稳健发展势头
2021第四季度及全年财务亮点： 四季度实现收入为人民币85.9亿元，全年实现收入为人民币305.0亿元，创历年同期新高。四季度和全年收入同比分别增长11.5%和15.3%。 四季度经营活动产生现金人民...
2022-03-30 2274
纳米压印光刻技术的详细介绍
在过去的几年中，纳米压印光刻引起了越来越多的兴趣。事实上，似乎有越来越多的潜在纳米压印应用和基本纳米压印光刻概念的变化。不同的纳米压印变体对于特定的最终用途应用各有优缺点...
2022-03-30 6949
过氧化氢在SC1清洁中的应用
RCA标准清洁，在去除硅表面污染方面非常有效。RCA清洁包括两个顺序步骤：标准清洁1（SC-1）和标准清洁2（SC-2）。SC-1溶液由氢氧化铵、过氧化氢和水的混合物组成，是迄今为止发现的最有效的...
2022-03-29 2422
新一代半导体材料氧化镓应用研究
在所有其他参数相同的情况下，对于电子应用，宽带隙(WBG)半导体优于窄带半导体(如硅)，因为导带和价带之间的大能量分离允许这些器件在高温和较高电压下工作。例如，与行业巨头硅1.1eV的相...
2022-03-29 2709
一种用非金属掩模层蚀刻碳化硅的方法
一种用非金属掩模层蚀刻碳化硅的方法。该方法包括提供碳化硅基底；通过在基底上施加一层材料来形成非金属掩模层；形成掩模层以暴露基底的底层区域；并以第一速率用等离子体蚀刻基底的...
2022-03-29 1726
罗德与施瓦茨将出席伦敦展会 世健获易德龙“21年优秀供应商”称号
在对合适的 DC-DC 产品进行了长时间的搜索后，Dynamis 最终选择了 Vicor 的 DCM4623 模块，因为它满足了他们的所有系统要求。Vicor DC-DC 转换器模块可以在阵列模式下运行，当电池在比赛期间放电时...
2022-03-29 3154
半导体工艺之PVA刷擦洗 聚VA刷摩擦分析
引言 本文简要综述了所提出的清洗机制。然后介绍了聚VA刷摩擦分析结果。在摩擦分析中，刷的粘弹性行为、平板的表面润湿性以及刷的变形是重要的。此外，我们还介绍了PVA电刷和接触面之间...
2022-03-28 2007
多晶硅表面纹理化的典型方法
湿化学蚀刻是多晶硅表面纹理化的典型方法,湿化学蚀刻法也是多晶体硅表面锯切损伤的酸织构化或氢氧化钾锯切损伤去除后的两步化学蚀刻,这些表面纹理化方法是通过在氢氟酸-硝酸-H2O的酸性...
2022-03-28 1094
KOH硅湿法蚀刻工艺设计研究
在本研究中，我们设计了一个150mm晶片的湿蚀刻槽来防止硅片的背面蚀刻，并演示了优化的工艺配方，使各向异性湿蚀刻的背面没有任何损伤，我们还提出了300mm晶圆处理用湿浴槽的设计，作为...
2022-03-28 2085
n型多孔硅刻蚀时间的效应分析
引言 硅在历史上一直是电子产品的主要材料，而光电子领域的工作几乎完全依赖于GaAs和磷化铟等ⅲ-ⅴ族化合物材料。这种材料系统二分法的主要原因是硅的间接带隙结构使其发光不切实际。然...
2022-03-25 3435
半导体硅基板的蚀刻方法简介
本文是为了在Si基板蚀刻制造金刚石时提高制造收率，为此，将半导体Si基板接入阳极，将Pt电极接入阴极后，在pt电极用跳汰机内放入氮气泡泡器，旋转对向的正电极上外部认可电压，泡泡器内...
2022-03-24 3355
泛林集团推三款开创性的选择性刻蚀产品 此前宣布季度股息1.5美元每股
泛林集团推三款开创性的选择性刻蚀产品 泛林集团深信创新不仅来自于创新者，更需要共同合作、精确细致和努力交付才能实现创新。我们助力第四次工业革命，也是世界领先半导体企业值得...
2022-03-22 2854
高频声能清洗半导体晶片的方法
我们研究了使用超临界二氧化碳 (SCCO2)/化学添加剂配方去除离子注入光刻胶的方 法。通过 SEM 和 XPS 分析对加工样品的离子注入表面进行表征表明，使用超临界二氧化碳/共溶剂配方，可以实现离...
2022-03-22 1393
一种在单个晶片清洁系统中去除后处理残留物的方法
提供了一种在单个晶片清洁系统中去除后处理残留物的方法。该方法开始于向设置在衬底上方的邻近头提供第一加热流体。然后，在基板的表面和邻近头的相对表面之间产生第一流体的弯液面。...
2022-03-22 1524
泛林集团推开创性的选择性刻蚀解决方案 加速实现3D
通过与客户、技术专家和产品团队的合作，他们已经在选择性刻蚀创新方面实现突破，这将使世界领先的芯片制造商得以提供下一代3D逻辑和存储设备。...
2022-03-22 1929
科幻变现实：喷下即疗愈 生物3D打印绘就生命密码图
在过去的二十年里，许多生物3D打印技术已经被开发出来，被应用于众多生物医学领域，包括组织工程、疾病模型和药物筛选等。尽管如此，大多数生物3D生物打印技术与临床和转化应用还有相...
2022-03-22 2122
晶盛机电围绕先进材料先进装备战略 2021年度业绩翻倍
晶盛机电围绕先进材料先进装备战略 2021年度业绩翻倍 光伏、半导体设备商浙江晶盛机电股份有限公司订单饱满，盈利能力也很强劲，2021年度业绩翻倍。 日前浙江晶盛机电股份有限公司公告了...
2022-03-17 2992
LED封装企业木林森预计净利润11.58亿同比增长283.76%
LED封装企业木林森预计净利润11.58亿同比增长283.76% 根据木林森2021年度业绩快报显示，归属于上市公司股东的净利润11.58亿，同比增长283.76%。业绩可谓亮眼。 我们看到木林森公告显示，在2021年...
2022-03-17 6243
湿清洗后晶圆旋转速度对金属线的影响
在超大规模集成(ULSI)制造的真实生产线中，器件加工过程中存在各种污染物。由于超大规模集成电路器件工艺需要非常干净的表面，因此必须通过清洁技术去除污染物，例如使用批量浸渍工具进...
2022-03-16 1001
臭氧法高效PR剥离技术研究
在半导体清洗过程中，作为取代 现有湿化学清洗液的新型湿式溶液，将臭氧溶解到纯中，被称为仅次于氟的强氧化剂，是PR去除工艺和杂质清洗。这种臭氧水方式的湿洗完全不使用对环境有害的...
2022-03-16 1109
安靠分析封测行业决定质量的因素
在我们的印象中，日本的制造业往往给人以高端先进的感觉，日本的产品都以质量可靠著称，而日本的工人都以执着的匠人精神而享誉全球。然而就在近几年，日本制造业的丑闻频频被爆出。从...
2022-03-09 5197
Achronix任命台积电资深高管Rick Cassidy为其董事会成员
“Cassidy先生为Achronix的董事会带来了其超过三十年的半导体和制造经验” 加利福尼亚州圣克拉拉市，2022年3月7日——高性能FPGA和嵌入式FPGA（eFPGA）半导体知识产权（IP ）领域的领导者 Achronix...
2022-03-08 6411
湿法蚀刻MEMS硅腔的工艺控制
硅的各向异性蚀刻是指定向依赖的蚀刻，通常通过碱性蚀刻剂如水溶液氢氧化钾，TMAH和其他羟化物如氢氧化钠。由于蚀刻速率对晶体取向、蚀刻剂浓度和温度的强烈依赖性，可以以高度可控和...
2022-03-08 1855
湿化学清洗过程中晶片污染控制方法
本文讨论并演示了痕量污染物分析仪的功能。该分析工具利用电喷雾飞行时间质谱仪对晶圆清洗溶液进行全自动在线监测。该分析仪通过其在正负模式下提供强(元素)和弱(分子)电离的能力，提...
2022-03-08 1452
兆声波辅助湿法化学处理去除
由TOK、JSR、陶氏化学等公司生产的新一代负色调和化学放大的正色调光阻剂在先进的包装应用中获得了发展势头。随着铜柱和微凸起的采用，树脂的厚度要求正在增加到40-100µm的范围。为了形成...
2022-03-08 1142
国产芯片何去何从？关于中国芯片这些话如鲠在喉
作为一家以AI、云计算、通信等技术为核心关注点的自媒体，芯片是永远无法绕开的话题。脑极体最早开始关注芯片是在2017年，彼时华为海思领先苹果发布了全球第一款移动AI芯片麒麟970；梁孟...
2022-03-08 8459
英特尔打造智能制造工厂 国民技术推进数字人民币创新
近年来，面对市场需求多样化、品牌迭代迅速，特别是受疫情、缺芯、原材料涨价等影响，全球供应链受到前所未有的挑战，兰石研究院作为兰石集团牵头重大项目的先锋队，在热交换系统、锻...
2022-03-03 937
研究碳化硅衬底和外延的实验报告
摘要 本发明提供一种能够提供低位错缺陷的高质量衬底的单晶碳化硅锭，和由此获得的衬底和外延晶片。 它是一种包含单晶碳化硅的单晶碳化硅锭，该单晶碳化硅含有浓度为2X1018 cm-3至6X 1020...
2022-02-15 1722
60亿美元！英特尔计划斥资收购以色列高塔半导体 IDM2.0战略加速推进
据外媒报道，英特尔计划斥资约 60 亿美元收购全球排名第九的以色列高塔半导体 (Tower Semiconductor)。受此消息激励，高塔半导体周一盘后股价喷涨超过 48%，目前市值逾 35 亿美元。英特尔盘后小...
2022-02-15 6316
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