半导体晶圆膜厚检测
型号:
XMSEMI-OPTM
技术点:
1.设备功能:
• 自动膜厚测试机EFEM,搭配客户OPTM测量头,完成晶圆片自动上料、膜厚检测、分拣下料;
2.工作状态:
• 晶圆尺寸8/12 inch;
• 晶圆材质:Sapphire、LT/LN(含透明和非黑化基板)、Si 、 SiC;
• 客户端OPTM测量头,设备尺寸556(W)×566(D)×618(H)mm,单次检测C/T约20s;
• 需要根据OPTM反馈测量结果对测试晶圆片进行OK/NG分选;
3.满足需求:
• 设备可满足8/12 inch晶圆膜厚检测的自动上料、分选;
• 设备PA和Mapping Sensor要求兼容透明及半透明材质Wafer;
• 设备Port4个,Port形式为OC,每个Port可兼容8/12inch Cassette,其中一个Port作为NG下料使用,
位置可根据需要自由设定;
• 设备整体洁净度1000 class;
optm检测头: